最高人民法院、最高人民検察院は、4月5日、知的財産権侵害の刑事事件に対し、新たな司法解釈を発表した。知的財産権の刑事司法保護の強化が狙いである。この新司法解釈により、著作権侵害に対する刑事的処罰がいっそう厳しくなった。新司法解釈は、同日（4月5日）に施行された。

  この新司法解釈により、営利を目的とし、著作権者の許諾を得ないままで著作権者の文字作品、音楽・映画・テレビ・録画作品、コンピュータソフトウェア及びその他の作品を複製する場合、複製品の数量が500枚以上になると、刑法第217条に規定の「その他の重大な事情を有する」に属し、複製品の数量が2,500枚以上になると、刑法第217条の規定した「その他の特に重大な事情を有する」に属すことになる。新司法解釈の規定した以上の2つの「著作権侵害罪」の数量は、2004年に出された司法解釈に比べ半減した。

  刑法第217条により、「その他の重大な事情」を有する場合、権利侵害者には3年以下の有期刑または拘留の判決が下され、罰金も課せられる。「その他の特に重大な事情」を有する場合、権利侵害者には3年以上7年以下の有期刑が下され、罰金も課せられる。

  新たな知的財産権刑事事件司法解釈により、人民法院は、知的財産権侵害の犯罪に対し、主な刑罰を法によって適用すると同時に、罰金刑の適用範囲も拡大した。司法解釈は、罰金刑に対し、「罰金額は、一般的に不法所得の1倍以上5倍以下、または不法経営による金額の50％以上1倍以下が確定される」と規定している。

  新司法解釈は、知的財産権犯罪の特徴に基づき、団体犯罪と個人犯罪の定罪・量刑基準を統一した。司法解釈により、団体犯罪実施刑法の第213条から第219条に規定の知的財産権侵害の犯罪行為は、2004年に出された司法解釈及び新司法解釈が規定する相応の個人犯罪の定罪量刑基準により定罪処罰される。